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在真空狀態(tài)下，壓力越來越小，分子間間距越來越大，分子間力越來越小，等離子清洗設備利用高頻源產生的高壓交變電場將氧、氬、氫、四氟化碳等工藝氣體震蕩成具有高反應活性或高能量的等離子體，然后與有機污染物及微顆粒污染物反應或碰撞形成揮發(fā)性物質，然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質清除出去，從而達到表面清潔、活化等目的。如圖所示：

觸摸屏操作界面

數字及圖標多重工藝參數實時顯示

整體小巧便于移動

自動/手動操作模式切換

可存儲多套工藝配方

v用于不同材料的表面處理

v適合于研究所、大學院校、研發(fā)中心使用